설비/장비(Equip)
Photomask Inspection System (포토마스크 검사 시스템)
포토마스크에 형성된 패턴의 결함을 검사하는 장비입니다. 마스크에 미세한 결함이라도 있으면 웨이퍼에 그대로 전사되어 수율에 치명적인 영향을 미치므로, 높은 해상도로 결함을 찾아냅니다. 광학적 또는 전자빔 기반의 시스템이 있으며, 마스크의 품질 관리에 필수적인 역할을 합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03