전공정(FAB)
Photon Shot Noise (포톤 샷 노이즈)
극자외선(EUV) 리소그래피에서 단위 면적당 입사하는 포톤(광자)의 수가 통계적으로 변동하는 현상입니다. 이로 인해 레지스트 감광막 내에서 화학 반응을 일으키는 포톤의 분포가 불균일해지고, 결과적으로 현상된 패턴의 불균일성, 즉 라인 에지 러프니스(LER)나 라인 폭 러프니스(LWR)를 유발하는 근본적인 원인이 됩니다. 고해상도 초미세 패턴에서 스토캐스틱 효과를 일으키는 가장 중요한 요인 중 하나입니다.
최종 업데이트: 2026.04.04