설비/장비(Equip)
Plasma Etcher (플라즈마 식각 장비)
가스를 플라즈마 상태로 만들어 웨이퍼 표면의 불필요한 물질을 선택적으로 제거하는 장비입니다. 고에너지 이온과 화학적 반응을 동시에 활용하여 미세 패턴을 정확하게 형성합니다. 높은 이방성(anisotropy)과 선택비(selectivity)를 구현할 수 있어 현대 반도체 제조의 핵심 공정인 미세 패턴 형성 및 트렌치 식각에 필수적입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03