설비/장비(Equip)
Plasma Source Optimization (플라즈마 소스 최적화)
High-NA EUV와 같은 첨단 리소그래피 공정에서 가장 중요한 핵심 요소는 바로 EUV 광원(Source)의 안정적이고 고출력화된 플라즈마를 생성하는 것입니다. 플라즈마 소스 최적화는 단순히 출력을 높이는 것을 넘어, 플라즈마의 에너지 분포(Energy Spectrum)와 균일성(Uniformity)을 정밀하게 제어하는 것을 목표로 합니다. 이는 노광 과정에서 발생하는 결함(Defect)의 종류와 발생 확률을 예측하고 최소화하는, 리소그래피 장비 자체의 근본적인 성능 향상을 의미합니다.
최종 업데이트: 2026.04.16