전공정(FAB)
Post-Exposure Bake (PEB) (후속 노광 베이크)
노광 후 포토레지스트가 화학적으로 반응하도록 유도하는 열처리 공정입니다. 이 공정은 노광으로 발생한 화학 반응을 촉진하여 레지스트의 해상도와 감도를 향상시키고, 스탠딩 웨이브 효과로 인한 패턴 왜곡을 줄이는 역할을 합니다. PEB 온도와 시간의 정밀한 제어는 미세 패턴 형성의 균일성과 재현성을 보장하며, 첨단 리소그래피 공정에서 핵심적인 단계입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03