전공정(FAB)
PSM (Phase Shift Mask, 위상 변위 마스크)
빛의 위상을 조절하여 인접한 패턴 사이의 간섭을 줄이고 해상도(Resolution)를 높이는 특수 마스크 기술입니다. 광원의 위상을 180도 반전시켜 빛이 중첩되는 부분을 상쇄함으로써 미세한 회로를 더 선명하게 그릴 수 있게 합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03