공정 소재(Material)
Quantum Dot Based Catalysts for Etching
양자점(Quantum Dot)의 독특한 물리화학적 특성을 활용하여 반도체 공정 중 식각(etching) 단계에서 발생하는 식각 속도, 선택비, 균일도 등을 정밀하게 제어하는 신소재 기술입니다. 양자점은 표면적 특성 조절이 용이하고 광학적, 전기적 특성이 뛰어나, 기존의 전통적인 식각 화학 물질보다 훨씬 미세하고 복잡한 패턴을 정밀하게 식각하는 데 기여할 수 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.13