전공정(FAB)
RCA Clean (RCA 세정)
1960년대 RCA(Radio Corporation of America)에서 개발된 표준적인 웨이퍼 습식 세정 공정으로, 유기물, 금속 오염, 파티클 등을 효과적으로 제거합니다. SC-1(암모니아수 + 과산화수소) 용액으로 유기물과 파티클을 제거하고, SC-2(염산 + 과산화수소) 용액으로 금속 이온을 제거하는 단계를 포함합니다. RCA 세정은 반도체 공정 전반에 걸쳐 웨이퍼 표면의 청결도를 유지하고 소자의 수율을 높이는 데 필수적인 기초 세정 기술입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03