PROCESS
Resist
마스크용 감광 재료로 전자빔용(EBR)과 레이저용으로 나뉘며, 감도(Sensitivity)가 중요합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03
마스크용 감광 재료로 전자빔용(EBR)과 레이저용으로 나뉘며, 감도(Sensitivity)가 중요합니다.