기초/기타
Resist (레지스트)
레지스트(감광액)는 리소그래피 공정에서 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하기 위해 사용되는 감광성 고분자 물질입니다. 빛에 노출되면 화학적 변화를 일으켜 현상액에 녹는 부분과 녹지 않는 부분이 생기게 하여 마스크 패턴을 웨이퍼에 전사하는 역할을 합니다. DUV 및 EUV 리소그래피에 사용되는 레지스트는 미세 패턴 형성 능력과 해상도를 결정하는 핵심 재료 중 하나입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03