전공정(FAB)
Resolution Enhancement Technology (RET) (해상도 향상 기술)
광학 리소그래피 시스템의 해상도와 패턴 형성 능력을 향상시키기 위한 다양한 기술을 총칭합니다. 마스크 설계 최적화(예: OPC), 위상 편이 마스크(PSM), 액침 리소그래피 등이 이에 해당하며, 빛의 파장 한계를 극복하여 미세 패턴을 형성하는 데 필수적입니다. RET는 차세대 공정 노드에서 더욱 미세한 회로를 구현하고 수율을 높이는 데 결정적인 역할을 합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03