설비/장비(Equip)
RIE (Reactive Ion Etcher) (반응성 이온 식각 장비)
플라즈마 식각 장비의 일종으로, 화학적 식각과 물리적 스퍼터링 효과를 동시에 이용하여 미세 패턴을 형성합니다. 주로 평행판 전극 구조를 사용하여 웨이퍼에 수직한 방향으로 이온을 가속시켜 높은 이방성 식각을 가능하게 합니다. 게이트, 배선 등 핵심 소자 구조 형성의 정밀도를 결정하는 중요한 장비입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03