전공정(FAB)
Self-Aligned Multiple Patterning (SAMP) (자기정렬 멀티패터닝)
기존 리소그래피 노광 공정의 해상도 한계를 극복하기 위해 사용되는 멀티패터닝 기술의 일종입니다. 스페이서(Spacer) 식각 기술을 활용하여 초기 정의된 패턴 주변에 두 개의 추가 패턴을 자기 정렬(Self-Aligned) 방식으로 형성함으로써, 하나의 노광 패턴으로부터 2배 또는 4배의 미세한 패턴을 생성합니다. SAQP(Self-Aligned Quadruple Patterning) 등이 대표적인 예시로, 오버레이(Overlay) 오류에 강하다는 장점이 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.04