공정 소재(Material)
Self-Aligned Silicide (SALICIDE) (자체 정렬 규화물)
트랜지스터의 폴리실리콘 게이트, 소스 및 드레인 영역에 저저항 규화물(silicide)을 자체 정렬 방식으로 형성하는 공정 기술입니다. 실리콘과 금속(예: Ni, Co)을 증착한 후 열처리를 통해 실리콘과 접하는 부분에서만 선택적으로 규화물을 형성합니다. 이 기술은 접촉 저항을 낮추고 기생 저항을 줄여 트랜지스터의 전류 구동 능력과 스위칭 속도를 크게 향상시키는 데 기여합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03