설비/장비(Equip)
Single-Wafer Cleaner (단일 웨이퍼 세정 장비)
웨이퍼 한 장씩 개별적으로 초고순도 화학 용액과 초음파/메가소닉 등을 이용하여 표면의 미세 오염 입자나 유기물을 제거하는 장비입니다. 웨이퍼 한 장당 정밀한 세정 조건을 제어할 수 있어 첨단 공정에서 미세 결함 발생을 최소화하고 수율을 극대화하는 데 필수적입니다.
최종 업데이트: 2026.04.03