SMO

SMO (Source-Mask Optimization, 조명원-마스크 동시 최적화)
사용자 정의: 최고의 해상도를 얻기 위해 조명원의 모양과 마스크 패턴을 동시에 최적화하는 기술.

상세 설명: 미세 공정에서 해상도를 극대화하기 위한 가장 고도화된 전산 리소그래피 기술입니다. 전통적으로는 마스크 패턴(OPC)과 조명계 모양(OAI)을 각각 독립적으로 최적화했으나, SMO는 이 두 가지를 단일 수학적 최적화 문제로 통합하여 해결합니다.

작동 원리: SMO는 픽셀 단위로 나뉜 자유 형태의 조명원(Pixelated Source)과 픽셀 또는 곡선 형태의 마스크 패턴(Pixelated/Curvilinear Mask, 종종 ILT 기반)을 동시에 탐색합니다. 이 co-optimization을 통해 주어진 타겟 패턴에 대해 이론적으로 가능한 최대의 해상도와 공정 윈도우를 확보할 수 있는 조명-마스크 조합을 찾아냅니다. 7nm 이하 초미세 노드 및 EUV 노광 공정에서 최적의 해상도를 얻기 위해 필수적으로 사용됩니다.