설계(Design)
Stochastic Process Variation Modeling
이는 나노 스케일 공정에서 발생하는 불완전성(Imperfect nature)을 통계적 모델링을 통해 예측하고 제어하는 기법입니다. EUV 리소그래피 공정이나 식각 과정에서 원자 단위의 국소적 결함이나 불규칙한 패턴 형성이 발생할 확률적 오차를 의미하며, 이를 수치적으로 정확히 예측하는 것이 핵심입니다. 이 모델을 적용함으로써, 공정 마진을 극대화하고 수율 예측의 신뢰성을 비약적으로 높여 첨단 반도체 제조의 불확실성을 관리할 수 있습니다.
최종 업데이트: 2026.04.16