설비/장비(Equip)
Vacuum Pump (진공 펌프)
증착, 식각, 이온 주입 등 다양한 반도체 공정에서 챔버 내부를 고진공 상태로 유지하는 데 사용되는 장비입니다. 공정 가스를 배출하여 잔여 입자를 제거하고, 불순물 혼입을 방지하여 공정의 안정성과 재현성을 확보합니다. 진공도는 공정 결과에 직접적인 영향을 미치므로 매우 중요합니다.
최종 업데이트: 2026.04.03