설비/장비(Equip)
Adaptive Lithography Control (ALC)
ALC는 포토리소그래피 과정 중 발생하는 실시간 패턴 결함 및 공정 변동성을 예측하고, 이를 시스템적으로 피드백하여 노광 매개변수를 능동적으로 수정하는 기술입니다. 이는 단순히 결함 검사(Inspection)를 넘어, 측정 데이터(Metrology)와 패턴 결함 정보를 결합하여 노광기(Stepper/Scanner)의 레지스트 패턴 형성 과정을 자체적으로 보정하는 지능형 공정 제어 시스템입니다. 고해상도 및 고집적화 시대에 필수적인 요소로, 양산 수율 및 공정 균일도를 혁신적으로 향상시키는 핵심 기술입니다.
최종 업데이트: 2026.04.16