전공정(FAB)
EUV High-NA Lithography (NA 0.55 and Beyond)
EUV High-NA Lithography는 기존 EUV 리소그래피보다 높은 개구수(Numerical Aperture, NA)를 갖는 장비를 사용하여 더욱 미세하고 복잡한 패턴을 구현하는 차세대 광학 리소그래피 기술입니다. NA 0.55를 넘어선 고 NA 시스템은 2나노미터(nm) 이하 공정에서 미세 패턴 구현의 한계를 극복하고, 칩의 성능과 집적도를 한 단계 끌어올리는 데 필수적입니다. 이는 기존 EUV 기술의 해상도 한계를 돌파하는 결정적인 진전입니다.
최종 업데이트: 2026.04.15