설비/장비(Equip)
High-NA EUV Source Optimization (High Numerical Aperture EUV 광원 최적화)
High-NA EUV 리소그래피의 핵심 병목 구간은 광학계 자체보다는 극자외선 광원(Source)의 안정적 출력이기 때문에, 광원의 전력 밀도 향상 및 스펙트럼 제어가 필수적입니다. 이를 위해 광학 시스템의 펌핑 효율을 극대화하고, 공진기(Resonator) 내 플라즈마 상태 유지 조건을 정밀하게 제어하여 안정적인 고출력 빔을 확보해야 합니다. 나아가, EUV 공정의 수율과 패턴 균일도를 장기적으로 유지하기 위한 광원 유지보수 및 진공 환경 최적화 기술이 핵심 기술 과제입니다.
최종 업데이트: 2026.04.16