전공정(FAB)
Neutron/Ion Beam Write (NIBW)
포토리소그래피나 에칭(Etching) 방식의 화학적 패터닝을 넘어서, 중성자나 이온 빔의 에너지를 이용하여 물질의 원자 구조 자체를 나노 스케일로 직접 제어하며 패턴을 형성하는 공정입니다. 이 기술은 기존의 물리적 한계를 돌파하여, 원자층 단위의 정확한 물질 증착 및 전기적 특성 변환을 가능하게 합니다. 주로 메모리 소자의 스위칭 영역을 물리적으로 프로그래밍하거나, 특정 금속 배선에 기능성 나노 구조를 정밀하게 구현하는 데 활용됩니다.
최종 업데이트: 2026.04.16