Stochastic Lithography Metrology (SLM) (확률론적 리소그래피 측정학)

SLM은 EUV와 같은 첨단 리소그래피 공정에서 발생하는 랜덤한 결함(Stochastic Defect)의 발생 확률과 크기를 정량적으로 예측하고 측정하는 신기술입니다. 파장(Wavelength)이 짧아지고 해상도가 높아질수록, 재료 원자 수준의 무작위한 도즈(Dose) 또는 배치(Placement) 오류가 심각한 공정 변동성을 야기하는데, SLM은 이러한 확률적 변동성(Process Variation)을 사전에 감지합니다. 이는 공정 단계에서 발생하는 미세한 불규칙성을 모델링하고 예측하여, 수율(Yield)을 극대화하고 차세대 노드 마스크 설계의 신뢰도를 확보하는 데 결정적인 역할을 합니다.